一、技術(shù)交底書應當具有最低公開內(nèi)容和最低公開量。一般認為,技術(shù)交底書的最低公開內(nèi)容最好能夠足以指導代理人把握正確的撰寫方向和重點,為其進一步挖掘技術(shù)內(nèi)容提供基礎(chǔ)。為此,應當使代理人獲知本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別和本發(fā)明的完整內(nèi)容。
二、有利于文件撰寫和技術(shù)交流的原則。匹配原則是文件撰寫和技術(shù)交流的基礎(chǔ),能夠使所撰寫的申請文件的各個部分,以及各個部分內(nèi)部更具邏輯性和相互支持。在和申請人進行技術(shù)交流時,幫助或提示代理人沿著正確的方向去挖掘進一步的技術(shù)內(nèi)容。
三、申請文件的審核原則,包括匹配原則、鑲嵌原則和替換原則。上述三原則能夠幫助審核者,用最短的時間審核出最多的問題。