一、技術(shù)交底書應當具有最低公開內(nèi)容和最低公開量。一般認為，技術(shù)交底書的最低公開內(nèi)容最好能夠足以指導代理人把握正確的撰寫方向和重點，為其進一步挖掘技術(shù)內(nèi)容提供基礎(chǔ)。為此，應當使代理人獲知本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別和本發(fā)明的完整內(nèi)容。
二、有利于文件撰寫和技術(shù)交流的原則。匹配原則是文件撰寫和技術(shù)交流的基礎(chǔ)，能夠使所撰寫的申請文件的各個部分，以及各個部分內(nèi)部更具邏輯性和相互支持。在和申請人進行技術(shù)交流時，幫助或提示代理人沿著正確的方向去挖掘進一步的技術(shù)內(nèi)容。
三、申請文件的審核原則，包括匹配原則、鑲嵌原則和替換原則。
上述三原則能夠幫助審核者，用最短的時間審核出最多的問題。
從屬權(quán)利包含了獨立權(quán)利要求中的所有技術(shù)性特點，而且在這個基礎(chǔ)上填補進去新的技術(shù)性特點，對獨立權(quán)利要求或在前的從屬權(quán)利要求的技術(shù)性內(nèi)容更進一步限定，使其保護范疇變小。其作用是，當獨立權(quán)利要求無法批準時，申請者能夠?qū)膶贆?quán)利要求開展改寫，使之變成獨立權(quán)利的要求。
從屬權(quán)利要求由引用部分和特點部分組成。引用部分注明所引用的權(quán)利要求的編號及創(chuàng)造發(fā)明的名稱，特點部分注明額外的技術(shù)性特點，對引用部分的特點作更進一步的限定。
實用新型和外觀設(shè)計專利申請，只允許在申請日起2個月內(nèi)提出主動修改；發(fā)明專利申請只允許在提出實審請求，收到專利局發(fā)出的發(fā)明專利申請，進入實質(zhì)審查階段通知書之日起3個月內(nèi)，對申請文件進行主動修改。
文件的補正是指專利申請的初步審查程序中，申請人通過提交更正后文件的方式，克服專利申請文件或其他文件存在的格式方面的缺陷。兩者的區(qū)別是：對申請文件的缺陷未依法補正的，其申請視為撤回或者駁回該申請；對其他文件未依法補正的，視為該文件未提交，但不直接導致申請被視為撤回或者駁回。
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