普通許可：又稱為非獨占性許可，是許可方允許被許可方在規(guī)定的時間和地域內使用某項專利，同時許可方自己仍保留在該地域內使用該項技術，以及再與第三方就同一技術簽訂許可合同的權利。
特征：許可方有權實施，被許可方有權實施，許可方可繼續(xù)許可其它第三方實施。
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詳細介紹
一種具有液晶及光記憶儲存型梳狀高分子材料的制備方法。
屬于高分子合成、功能化聚合物制備及應用領域，制備了一系列不同分子量及偶氮苯含量的新型液晶記憶儲存梳狀高分子材料。
首先用甲基丙烯酸羥乙酯和2?溴代異丁酰溴制備含溴單體(甲基丙烯酸(α?溴異丁酰氧基乙基)酯，BiBEM)，其次，含溴單體與甲基丙烯酸甲酯進行可逆加成鏈轉移聚合，制備出分子量可控的側鏈含溴代酯的甲基丙烯酸酯共聚合物P0。
最后，P0作為大分子引發(fā)劑，對偶氮苯單體進行原子轉移自由基聚合，制備出梳狀高分子，通過偏光顯微鏡(POM)和原子力顯微鏡(AFM)顯示偶氮苯聚合物具有優(yōu)異的液晶行為和光響應活性，有望應用于光活性的液晶材料和光記憶存儲材料。
專利介紹
| 序號 | 專利號 | 專利名稱 | 專利類型 | 專利狀態(tài) | 其他資料 |
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1 |
一種具有液晶及光記憶儲存型梳狀高分子材料的制備方法 |
發(fā)明專利 |
已下證 |
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浙公網安備33020002001156號
